高頻等離子體炬有許多應用程序,尤其是在等離子體凈化化工、冶金和光學材料。它也可以制備超導材料,比如使用高頻等離子體氫還原釩-硅(或釩-鍺),氯化鈮、鋁或鈮-鍺蒸汽在超導材料的制備。冶金、礦山企業在中***需要處理的鈦礦、釩渣、磷礦和工業耐火材料浪費很多渣含有稀有材料,采用高頻等離子體炬是一個有前途的冶煉方法,提煉有用的金屬和稀有元素。

　　低壓等離子發生器,低壓氣體放電裝置,通常由三部分組成:生產等離子電源,放電室、真空系統和工作氣體(或反應氣體供應系統。通常有四類:靜電放電裝置,高壓電暈放電裝置,高頻率(rf)排放裝置和微波放電裝置。固體表面或需要處理的聚合物薄膜層的襯底的表面放電中,通過等離子體處理。由于低壓等離子冷等離子體,當氣壓約為133 ~ 13.3 mpa,電子溫度高達10000 k,和氣體溫度只有300,不燒壞矩陣,并有足夠的精力去表面處理。

　　低壓等離子發生器已越來越廣泛應用于等離子體聚合,制備的薄膜,蝕刻、清洗、和其它表面處理技術。成功的例子,比如:在半導體技術,使用氟利昂等離子體干蝕刻,與離子鍍氮化鈦薄膜在金屬表面,等。自70年代以來,低壓等離子體非金屬固體(如玻璃、紡織品、塑料、等)的表面處理和修改技術快速發展。